高真空型反応性イオンプレーティングによるZnO薄膜結晶作成
Bibliographic Information
- Other Title
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- コウ シンクウガタ ハンノウセイ イオン プレーティング ニヨル ZnO ハク
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資料形態 : テキストデータ プレーンテキスト
Journal
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- 東京電機大学工学部研究報告 / 東京電機大学工学部 編
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東京電機大学工学部研究報告 / 東京電機大学工学部 編 (27), p39-47, 1979-12
東京 : 東京電機大学工学部
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520290882522679552
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- NII Article ID
- 40004362711
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- NII Book ID
- AN00162961
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- ISSN
- 0389617X
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- NDL BIB ID
- 2290799
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZN31(科学技術--電気工学・電気機械工業)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles