Target Voltage and Partial Gas Pressure Dependencies of the Thin Film Synthesized by Reactive Sputtering
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収録刊行物
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- 鶴岡工業高等専門学校研究紀要 = Research reports of Tsuruoka National College of Technology / 鶴岡工業高等専門学校 編
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鶴岡工業高等専門学校研究紀要 = Research reports of Tsuruoka National College of Technology / 鶴岡工業高等専門学校 編 (35), 27-34, 2000
鶴岡 : 鶴岡工業高等専門学校
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520290882525656448
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- NII論文ID
- 110000260652
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- NII書誌ID
- AN00149373
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- ISSN
- 02861232
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- NDL書誌ID
- 5693611
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- 本文言語コード
- en
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- NDL 雑誌分類
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- ZV1(一般学術誌--一般学術誌・大学紀要)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles