クラスタリングによる高速なリソグラフィ照明形状最適化
Bibliographic Information
- Other Title
-
- クラスタリング ニ ヨル コウソク ナ リソグラフィ ショウメイ ケイジョウ サイテキ カ
- Exposure source optimization by clustering for lithography
- VLSI設計技術
- VLSI セッケイ ギジュツ
Search this article
Journal
-
- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
-
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 113 (454), 105-110, 2014-03
東京 : 電子情報通信学会
- Tweet
Details 詳細情報について
-
- CRID
- 1520290882964854016
-
- NII Article ID
- 110009862576
-
- NII Book ID
- AA1123312X
-
- ISSN
- 09135685
-
- NDL BIB ID
- 025409763
-
- Text Lang
- ja
-
- NDL Source Classification
-
- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
-
- Data Source
-
- NDL Search
- CiNii Articles
