非真空プロセス「ミストCVD法」でのIGZO/AlOx酸化物TFTの作製とその特性

書誌事項

タイトル別名
  • ヒシンクウ プロセス 「 ミスト CVDホウ 」 デ ノ IGZO/AlOx サンカブツ TFT ノ サクセイ ト ソノ トクセイ
  • Fabrication and properties of Oxide TFT with an IGZO/AlOx stack prepared by non-vacuum process "mist CVD"
  • 情報ディスプレイ
  • ジョウホウ ディスプレイ

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