HF+ヒドラジン溶液処理をしたエピタキシャル(100)ZrN(100)Si構造上への(100)Ir薄膜の作製
Bibliographic Information
- Other Title
-
- HF ヒドラジン ヨウエキ ショリ オ シタ エピタキシャル 100 ZrN 100 Si コウゾウ ジョウ エ ノ 100 Ir ハクマク ノ サクセイ
Search this article
Journal
-
- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
-
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 100 (652), 1-6, 2001-03-05
東京 : 電子情報通信学会
- Tweet
Details 詳細情報について
-
- CRID
- 1520290883945779712
-
- NII Article ID
- 110003310759
-
- NII Book ID
- AA1123312X
-
- ISSN
- 09135685
-
- NDL BIB ID
- 5731498
-
- Text Lang
- ja
-
- NDL Source Classification
-
- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
-
- Data Source
-
- NDL
- CiNii Articles
