熱電子励起プラズマスパッタ法による低比抵抗ITO膜形成とそのメカニズム
Bibliographic Information
- Other Title
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- ネツ デンシ レイキ プラズマ スパッタホウ ニ ヨル テイヒ テイコウ ITOマク ケイセイ ト ソノ メカニズム
- The growth mechanism of low-resistivity ITO films on the glass substrates by a hot-cathode plasma sputtering method
- 電子デバイス
- デンシ デバイス
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- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
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電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 107 (227), 25-30, 2007-09-21
東京 : 電子情報通信学会
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520290883985217408
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- NII Article ID
- 110006420345
- 110006418780
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- NII Book ID
- AA1123312X
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- ISSN
- 09135685
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles
