MOCVD法によるCeO2薄膜形成時の反応機構--水分子(H2O)の影響
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- MOCVDホウ ニ ヨル CeO2 ハクマク ケイセイジ ノ ハンノウ キコウ ミズブンシ H2O ノ エイキョウ
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- 法政大学イオンビーム工学研究所報告
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法政大学イオンビーム工学研究所報告 (30), 16-20, 2009
小金井 : 法政大学イオンビーム工学研究所
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520290884270504576
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- NII Article ID
- 40018784398
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- NII Book ID
- AN00354689
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- ISSN
- 02860201
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- NDL BIB ID
- 11061987
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZM35(科学技術--物理学)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles
