薄膜成長におけるイオン照射の効果
書誌事項
- タイトル別名
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- ハクマク セイチョウ ニ オケル イオン ショウシャ ノ コウカ
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抄録
記事分類: 電気工学--電子工学--電子部品--固体素子 ; 化学・化学工業--理論化学・物理化学--界面化学・コロイド化学
収録刊行物
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- 技苑 = Innovative technology world
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技苑 = Innovative technology world (51), p21-24, 1987-03
吹田 : 関西大学先端科学技術推進機構
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520290885133951872
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- NII論文ID
- 40000575477
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- NII書誌ID
- AN00365470
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- ISSN
- 02856301
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- NDL書誌ID
- 3130590
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZM2(科学技術--科学技術一般--大学・研究所・学会紀要)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles