化学堆積法による光導電性アモルファスシリコン薄膜の作製
Bibliographic Information
- Other Title
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- カガク タイセキホウ ニ ヨル ヒカリドウデンセイ アモルファス シリコン ハ
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Abstract
記事分類: 電気工学--電気材料・部品
Journal
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- 電子写真学会誌
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電子写真学会誌 26 (3), p245-251, 1987-09
東京 : 電子写真学会
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520291855104977408
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- NII Article ID
- 40004297776
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- NII Book ID
- AN00261409
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- ISSN
- 0387916X
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- NDL BIB ID
- 3142141
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles
