High-kゲート絶縁膜を有する65nmノードSRAM技術
書誌事項
- タイトル別名
-
- High kゲート ゼツエン マク オ ユウスル 65nm ノード SRAM ギジュツ
- 特集 次世代半導体製造のための新プロセス技術・新材料
- トクシュウ ジ セダイ ハンドウタイ セイゾウ ノ タメ ノ シン プロセス ギジュツ シン ザイリョウ
この論文をさがす
収録刊行物
-
- 電子材料
-
電子材料 44 (5), 24-28, 2005-05
東京 : 工業調査会
- Tweet
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1520291855758119296
-
- NII論文ID
- 40006747501
-
- NII書誌ID
- AN00153166
-
- ISSN
- 03870774
-
- NDL書誌ID
- 7341131
-
- 本文言語コード
- ja
-
- NDL 雑誌分類
-
- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
-
- データソース種別
-
- NDL
- CiNii Articles