Cr薄膜形成におけるSi基板酸化層の反射率への影響
書誌事項
- タイトル別名
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- Cr ハクマク ケイセイ ニ オケル Si キバン サンカソウ ノ ハンシャリツ エ ノ エイキョウ
- Effect of Si substrate oxidization on reflectance for Cr thin film
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収録刊行物
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- 明星大学理工学部研究紀要 = Research bulletin of Meisei University. Physical sciences and engineering
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明星大学理工学部研究紀要 = Research bulletin of Meisei University. Physical sciences and engineering (48), 1-3, 2012
日野 : 明星大学
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520572357648771712
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- NII論文ID
- 40020131946
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- NII書誌ID
- AA11368424
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- ISSN
- 13467239
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- NDL書誌ID
- 025602171
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZM2(科学技術--科学技術一般--大学・研究所・学会紀要)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles