CuPc薄膜FETへのV2O5薄膜の積層による効果

書誌事項

タイトル別名
  • CuPc ハクマク FET エノ V2O5 ハクマク ノ セキソウ ニ ヨル コウカ
  • Effects of V2O5 thin film insertion to CuPc thin film FETs
  • 有機エレクトロニクス
  • ユウキ エレクトロニクス

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1520572358424818688
  • NII論文ID
    10019975361
    110006533642
  • NII書誌ID
    AA1123312X
  • ISSN
    09135685
  • NDL書誌ID
    9290600
  • Web Site
    https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I9290600
  • 本文言語コード
    ja
  • NDL 雑誌分類
    • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
  • データソース種別
    • NDL
    • CiNii Articles

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