特集　脱・レアメタル依存症：Part2：さらば安直使用　研磨剤　Ce：視点を変えて　装置側からアプローチ

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タイトル別名
  • 研磨剤(Ce) 視点を変えて装置側からアプローチ
  • ケンマザイ Ce シテン オ カエテ ソウチガワ カラ アプローチ
  • 研磨剤(Ce) 視点を変えて装置側からアプローチ
  • 特集 脱・レアメタル依存症 ; さらば安直使用
  • トクシュウ ダツ レアメタル イソンショウ ; サラバ アンチョク シヨウ

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抄録

酸化セリウム（CeO2）が主成分の研磨剤は、レアメタル依存症の典型だ。それ故、「削減」「代替」の可能性を示す格好のケースにもなっている。　CeO2研磨剤は、高度な平滑面が求められる液晶ディスプレイやHDD向けガラス基板などの研磨に使われる。以前は酸化鉄（Fe2O3）が使われていたが、研磨能率と、研磨後の平滑性が優れるために、費用対効果はFe2O3よりもむしろ優れている。

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