招待講演 トランジスタ領域毎に最適化された複数歪技術を用いる45nm高性能・低リークバルクロジックプラットフォーム技術

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  • ショウタイ コウエン トランジスタ リョウイキ ゴト ニ サイテキカサレタ フクスウ ヒズミ ギジュツ オ モチイル 45nm コウセイノウ テイリーク バルク ロジック プラットフォーム ギジュツ
  • High-performance and low-leak bulk logic platform utilizing FET specific multiple stressors with highly enhanced strain for 45-nm CMOS technology
  • シリコン材料・デバイス
  • シリコン ザイリョウ デバイス

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