32nm世代以降のCMOS向けメタルゲート/High-k絶縁膜技術の導入によるMOSFET特性の変化

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  • 32nm セダイ イコウ ノ CMOS ムケ メタル ゲート High k ゼツエンマク ギジュツ ノ ドウニュウ ニ ヨル MOSFET トクセイ ノ ヘンカ
  • Influence of metal gate/high-k technology introduction on MOSFET device characteristics beyond 32nm node
  • 集積回路
  • シュウセキ カイロ

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