Damage characteristics of TiO2 thin film surfaces etched by capacitively coupled radio frequency helium plasmas
書誌事項
- タイトル別名
-
- Special issue: Dry process
- Special issue Dry process
この論文をさがす
収録刊行物
-
- Japanese journal of applied physics : JJAP
-
Japanese journal of applied physics : JJAP 50 (8), 2011-08
Tokyo : The Japan Society of Applied Physics
- Tweet
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1520572359144187264
-
- NII論文ID
- 40018961090
-
- NII書誌ID
- AA12295836
-
- ISSN
- 00214922
-
- NDL書誌ID
- 11211179
-
- 本文言語コード
- en
-
- NDL 雑誌分類
-
- ZM35(科学技術--物理学)
-
- データソース種別
-
- NDLサーチ
- CiNii Articles