アモルファスシリコンの光誘起変化--レーザー脱離飛行時間質量分析による解析
Bibliographic Information
- Other Title
-
- アモルファス シリコン ノ ヒカリ ユウキ ヘンカ レーザー ダツリ ヒコウ
Search this article
Journal
-
- 応用物理
-
応用物理 66 (10), 1089-1093, 1997-10
東京 : 応用物理学会
- Tweet
Details 詳細情報について
-
- CRID
- 1520572360199325824
-
- NII Article ID
- 10004566002
-
- NII Book ID
- AN00026679
-
- ISSN
- 03698009
-
- NDL BIB ID
- 4313351
-
- Text Lang
- ja
-
- NDL Source Classification
-
- ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
-
- Data Source
-
- NDL
- CiNii Articles