パルスレーザー堆積法による複酸化物薄膜のエピタキシー
Bibliographic Information
- Other Title
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- パルス レーザー タイセキホウ ニ ヨル フクサンカブツ ハクマク ノ エピタキシー
- Epitaxial growth of complex oxide thin films by pulsed laser deposition
- 特集 高品質エピタキシャル薄膜の作製・デバイス化
- トクシュウ コウヒンシツ エピタキシャル ハクマク ノ サクセイ デバイスカ
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Journal
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- 機能材料
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機能材料 28 (3), 6-14, 2008-03
東京 : シーエムシー出版
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520573331037284736
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- NII Article ID
- 40015848493
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- NII Book ID
- AN00360069
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- ISSN
- 02864835
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- NDL BIB ID
- 9366075
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZM16(科学技術--科学技術一般--工業材料・材料試験)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles