EOT=0.5nmに向けた希土類MOSデバイスの高温短時間熱処理の検討

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タイトル別名
  • EOT 0 5nm ニ ムケタ キドルイ MOS デバイス ノ コウオン タンジカン ネツ ショリ ノ ケントウ
  • High temperature rapid thermal annealing of rare-earth oxides dielectrics for highly scaled gate stack of EOT = 0.5nm
  • シリコン材料・デバイス
  • シリコン ザイリョウ デバイス

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