超臨界流体を用いた電子デバイス用薄膜形成プロセス
Bibliographic Information
- Other Title
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- チョウリンカイ リュウタイ オ モチイタ デンシ デバイスヨウ ハクマク ケイセイ プロセス
- 特集 超臨界流体を利用した材料開発
- トクシュウ チョウリンカイ リュウタイ オ リヨウシタ ザイリョウ カイハツ
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Journal
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- 化学工学 = Chemical engineering of Japan
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化学工学 = Chemical engineering of Japan 71 (8), 500-503, 2007-08
東京 : 化学工学会
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520853832207756928
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- NII Article ID
- 10019752018
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- NII Book ID
- AN00037212
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- ISSN
- 03759253
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- NDL BIB ID
- 8908844
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZP5(科学技術--化学・化学工業--化学工学)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles
