エタノール添加スラリーを用いたCMPによるCWレーザ結晶化Si薄膜の平坦化
Bibliographic Information
- Other Title
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- エタノール テンカ スラリー オ モチイタ CMP ニ ヨル CW レーザ ケッショウカ Si ハクマク ノ ヘイタンカ
- Planarization of CW laser crystallized Si thin films by chemical mechanical polishing using slurry with ethyl alcohol
- シリコン材料・デバイス
- シリコン ザイリョウ デバイス
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- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
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電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 108 (236), 13-15, 2008-10
東京 : 電子情報通信学会
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520853832449762816
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- NII Article ID
- 110007082043
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- NII Book ID
- AA1123312X
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- ISSN
- 09135685
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- NDL BIB ID
- 9701978
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- Data Source
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- NDL Search
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