Growth and Characterization of YSZ Films on Thermally Oxidized Silicon Substrate
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Journal
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- 成蹊大学工学研究報告
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成蹊大学工学研究報告 39 (1), 1-6, 2002-01
武蔵野 : 成蹊大学工学部
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520853832600880896
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- NII Article ID
- 110000553890
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- NII Book ID
- AN10431017
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- ISSN
- 09199888
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- NDL BIB ID
- 6051473
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- Text Lang
- en
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- NDL Source Classification
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- ZM2(科学技術--科学技術一般--大学・研究所・学会紀要)
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- Data Source
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- NDL Search
- CiNii Articles