テトラエトキシゲルマニウムによる極薄GeO₂膜の形成
Bibliographic Information
- Other Title
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- テトラエトキシゲルマニウム ニ ヨル ゴクウス GeO ₂ マク ノ ケイセイ
- Formation of Ultra Thin GeO₂ Film by Tetraethoxy-Germanium
- シリコン材料・デバイス
- シリコン ザイリョウ ・ デバイス
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Journal
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- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
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電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 113 (87), 7-11, 2013-06-18
東京 : 電子情報通信学会
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520853832624725888
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- NII Article ID
- 110009778904
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- NII Book ID
- AA1123312X
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- ISSN
- 09135685
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- NDL BIB ID
- 024682717
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles
