Fabrication of 3-5 on insulator structures on Si using microchannel epitaxy with a two-step growth technique
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- Fabrication of 3 5 on insulator structures on Si using microchannel epitaxy with a two step growth technique
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抄録
コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌
収録刊行物
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- Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
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Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP 46 (9A), 5930-5934, 2007-09
Tokyo : Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physics
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520853832864063232
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- NII論文ID
- 40015602619
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- NII書誌ID
- AA10457675
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- ISSN
- 00214922
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- NDL書誌ID
- 8909970
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- 本文言語コード
- en
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- NDL 雑誌分類
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- ZM35(科学技術--物理学)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles