光干渉計を用いたプラズマエッチング中の基板温度と膜厚の同時モニタリング
書誌事項
- タイトル別名
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- ヒカリ カンショウケイ オ モチイタ プラズマエッチング チュウ ノ キバン オンド ト マクアツ ノ ドウジ モニタリング
- Simultaneous monitoring of wafer temperature and film thickness on plasma etching by optical interferometer
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収録刊行物
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- 名城大学理工学部研究報告 = Research reports of the Faculty of Science and Technology, Meijo University / 名城大学理工学部 編
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名城大学理工学部研究報告 = Research reports of the Faculty of Science and Technology, Meijo University / 名城大学理工学部 編 (52), 20-24, 2012
名古屋 : 名城大学理工学部
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520853833351033984
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- NII論文ID
- 40019824788
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- NII書誌ID
- AA12204003
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- NDL書誌ID
- 024926189
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZM2(科学技術--科学技術一般--大学・研究所・学会紀要)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles