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PRSによるHigh-kゲート絶縁膜中の固定電荷の評価
Bibliographic Information
- Other Title
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- PRS ニ ヨル High kゲート ゼツエン マク チュウ ノ コテイ デンカ ノ ヒョウカ
- 特集:シリコン関連材料の作製と評価
- トクシュウ シリコン カンレン ザイリョウ ノ サクセイ ト ヒョウカ
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Journal
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- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
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電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 104 (510), 25-30, 2004-12-16
東京 : 電子情報通信学会
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Keywords
Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520853833501402240
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- NII Article ID
- 110003311192
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- NII Book ID
- AA1123312X
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- ISSN
- 09135685
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- NDL BIB ID
- 7222796
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- Data Source
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- NDL Search
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