Low temperature hetero-epitaxy of ferromagnetic silicide on Ge substrates for spin-transistor application
書誌事項
- タイトル別名
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- Low temperature hetero epitaxy of ferromagnetic silicide on Ge substrates for spin transistor application
- 強磁性体シリサイド/Geの低温エピタキシャル成長とスピントランジスタ
- Electron devices: 第15回先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア・太平洋ワークショップ(AWAD2007)
- Electron devices ダイ 15カイ センタン ハンドウタイ デバイス ノ キソ ト オウヨウ ニ カンスル アジア タイヘイヨウ ワークショップ AWAD 2007
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収録刊行物
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- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
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電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 107 (110), 221-224, 2007-06
東京 : 電子情報通信学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520853833972476928
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- NII論文ID
- 110006343819
- 110006343275
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- NII書誌ID
- AA1123312X
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- ISSN
- 09135685
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- 本文言語コード
- en
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- 資料種別
- journal article
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- NDL 雑誌分類
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- データソース種別
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- NDLサーチ
- CiNii Articles
- KAKEN
