高周波プラズマ化学気相成長法による窒素添加DLC薄膜の特性評価
Bibliographic Information
- Other Title
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- コウシュウハ プラズマ カガク キソウ セイチョウホウ ニ ヨル チッソ テンカ DLC ハクマク ノ トクセイ ヒョウカ
- Characterization of nitrogen-doped DLC film prepared by radio frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition
- 電子部品・材料
- デンシ ブヒン ・ ザイリョウ
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Journal
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- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
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電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 114 (202), 1-5, 2014-09
東京 : 電子情報通信学会
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520853834080923392
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- NII Article ID
- 110009950805
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- NII Book ID
- AA1123312X
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- ISSN
- 09135685
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- NDL BIB ID
- 025839461
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles
