招待講演 高NA(1.07)液浸リソグラフィ技術を用いた45nm世代高性能システムLSIプラットフォーム技術(CMOS6)
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- ショウタイ コウエン コウNA 1 07 エキシンリソグラフィ ギジュツ オ モチイタ 45nm セダイ コウセイノウ システム LSI プラットフォーム ギジュツ CMOS6
- IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術)
- IEDM トクシュウ センタン CMOS デバイス プロセス ギジュツ
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- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
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電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 106 (504), 9-12, 2007-01-26
東京 : 電子情報通信学会
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520853834111528960
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- NII Article ID
- 110006202256
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- NII Book ID
- AA1123312X
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- ISSN
- 09135685
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- NDL BIB ID
- 8639972
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles