プラズマ酸化、酸窒化、窒化によるゲート絶縁膜中に含まれる希ガス原子が電気的特性に与える影響
Bibliographic Information
- Other Title
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- プラズマ サンカ サン チッカ チッカ ニ ヨル ゲート ゼツエン マク チュウ ニ フクマレル キガス ゲンシ ガ デンキテキ トクセイ ニ アタエル エイキョウ
- 特集:プロセスクリーン化と新プロセス技術
- トクシュウ プロセスクリーンカ ト シン プロセス ギジュツ
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Journal
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- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
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電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 102 (415), 19-26, 2002-10-28
東京 : 電子情報通信学会
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520853834245537024
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- NII Article ID
- 110003308038
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- NII Book ID
- AA1123312X
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- ISSN
- 09135685
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- NDL BIB ID
- 6360083
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles