Strategy for Highly-Reliable Porous Low-k Films--Mechanism of Time-Dependent Dielectric-Constant Increase (TDDI)
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- Strategy for Highly Reliable Porous Low k Films Mechanism of Time Dependent Dielectric Constant Increase TDDI
- ポーラスlow-k膜のk値上昇(TDDI)メカニズムと信頼性向上技術
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- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
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電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 104 (645), 23-28, 2005-01-31
東京 : 電子情報通信学会
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520853834298853248
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- NII Article ID
- 110003311235
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- NII Book ID
- AA1123312X
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- ISSN
- 09135685
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- NDL BIB ID
- 7254014
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- Text Lang
- en
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- NDL Source Classification
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles