分子線エピタキシー法によりKBr基板上作製されたバナジルフタロシアニン薄膜
書誌事項
- タイトル別名
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- ブンシセン エピタキシーホウ ニ ヨリ KBr キバン ジョウサク セイサレタ バナジルフタロシアニン ハクマク
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収録刊行物
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- 愛知工業大学総合技術研究所研究報告 / 研究報告編集委員会 編
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愛知工業大学総合技術研究所研究報告 / 研究報告編集委員会 編 (1), 11-17, 1999-06
豊田 : 愛知工業大学総合技術研究所
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520853834681985920
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- NII論文ID
- 110000038597
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- NII書誌ID
- AA11484797
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- ISSN
- 13449672
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- NDL書誌ID
- 5483473
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZM2(科学技術--科学技術一般--大学・研究所・学会紀要)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles