Gap-filling property of Cu film by chemical vapor deposition

詳細情報 詳細情報について

• CRID

  1520854806249772160

• NII論文ID

  40005129819

• ISSN

  13422979

• NDL書誌ID

  5417730

• Web Site

  http://id.ndl.go.jp/bib/5417730

  https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I5417730

• 本文言語コード

  en

• NDL 雑誌分類

  • ZM5(科学技術--科学技術一般--工学・工業)

• データソース種別

  • NDLサーチ
  • CiNii Articles