ビスフェノールAとホルムアルデヒドを用いたノボラック樹脂の合成と性質 : ビスフェノール類に着眼した柔軟性をもつフォトレジスト材の開発
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書誌事項
- タイトル別名
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- ビスフェノール A ト ホルムアルデヒド オ モチイタ ノボラック ジュシ ノ ゴウセイ ト セイシツ : ビスフェノールルイ ニ チャクガン シタ ジュウナンセイ オ モツ フォトレジストザイ ノ カイハツ
- Synthesis and Properties of Bisphenol A-Formaldehyde Novolac Resins : Development of Photo-resist Material Having Flexibility Noticed with Bisphenol Unit
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収録刊行物
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- ネットワークポリマー = Journal of network polymer, Japan
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ネットワークポリマー = Journal of network polymer, Japan 38 (4), 173-183, 2017
東京 : 合成樹脂工業協会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1521136278480242304
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- NII論文ID
- 40021268912
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- NII書誌ID
- AN10521608
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- ISSN
- 13420577
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- NDL書誌ID
- 028391199
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZP17(科学技術--化学・化学工業--高分子化学・高分子化学工業--ゴム・プラスチックス)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles
- KAKEN
