High-k、Metal Gate用成膜装置「C-7100GT」の開発--スパッタ成膜法を用いたゲートプロセスへの取り組み

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• CRID

  1521136280843587712

• NII論文ID

  40006725170

• ISSN

  13422979

• NDL書誌ID

  7323185

• Web Site

  http://id.ndl.go.jp/bib/7323185

  https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I7323185

• 本文言語コード

  ja

• NDL 雑誌分類

  • ZM5(科学技術--科学技術一般--工学・工業)

• データソース種別

  • NDLサーチ
  • CiNii Articles