先端デバイス世代におけるUVTPの層間絶縁膜プロセスへの適用と効果
Bibliographic Information
- Other Title
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- センタン デバイス セダイ ニ オケル UVTP ノ ソウ カン ゼツエン マク プロセス エ ノ テキヨウ ト コウカ
- 全冊特集 ナノプロセス時代の半導体製造装置
- ゼン サツ トクシュウ ナノプロセス ジダイ ノ ハンドウタイ セイゾウ ソウチ
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Journal
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- 電子材料
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電子材料 44 (3), 19-22, 2005-03
東京 : 工業調査会
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1521417755955960064
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- NII Article ID
- 40006645392
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- NII Book ID
- AN00153166
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- ISSN
- 03870774
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- NDL BIB ID
- 7267887
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles
