窒化物系極薄膜の作製をめざした真空紫外光プロセス
書誌事項
- タイトル別名
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- チッカブツケイ キョクハクマク ノ サクセイ オ メザシタ シンクウ シガイコウ プロセス
- Processings for ultra-thin films of nitrides utilizing the vacuum ultraviolet radiation
- 特集 材料開発の新しい可能性
- トクシュウ ザイリョウ カイハツ ノ アタラシイ カノウセイ
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収録刊行物
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- 化學工業
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化學工業 60 (2), 136-142, 2009-02
東京 : 小峰工業出版
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1521699229646070272
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- NII論文ID
- 40016436146
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- NII書誌ID
- AN00037245
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- ISSN
- 04512014
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- NDL書誌ID
- 9793077
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZP1(科学技術--化学・化学工業)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles