スパッタ堆積法によるSi/Geの低温高速エピタキシャル成長と太陽電池応用

書誌事項

タイトル別名
  • スパッタ タイセキホウ ニ ヨル Si/Ge ノ テイオン コウソク エピタキシャル セイチョウ ト タイヨウ デンチ オウヨウ
  • High Speed Sputter Epitaxy of Si/Ge and its Application to Si Based Solar Cells
  • 特集 次世代エネルギー技術開発の展望
  • トクシュウ ジセダイ エネルギー ギジュツ カイハツ ノ テンボウ

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収録刊行物

  • 化學工業

    化學工業 66 (3), 198-205, 2015-03

    東京 : 小峰工業出版

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