再録 反応性スパッタリング法により形成したAl-Cr-N系皮膜の特性におよぼすN2ガス分圧の影響
書誌事項
- タイトル別名
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- サイロク ハンノウセイ スパッタリングホウ ニ ヨリ ケイセイシタ Al Cr Nケイ ヒマク ノ トクセイ ニ オヨボス N2 ガス ブンアツ ノ エイキョウ
- Effects of nitrogen partial pressure on the properties of Al-Cr-N films prepared by DC reactive sputtering
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収録刊行物
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- 山口県産業技術センター研究報告 = Report of Yamaguchi Prefectural Industrial Technology Institute / 山口県産業技術センター 編
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山口県産業技術センター研究報告 = Report of Yamaguchi Prefectural Industrial Technology Institute / 山口県産業技術センター 編 (18), 33-37, 2006-07
宇部 : 山口県産業技術センター
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1521980705318201600
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- NII論文ID
- 40015590305
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- NII書誌ID
- AA11510092
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- ISSN
- 1345210X
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- NDL書誌ID
- 8900381
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZM5(科学技術--科学技術一般--工学・工業)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles