Si結晶表面のナノスケール改質のためのシミュレーション--初期酸化およびイオン注入素過程の研究
書誌事項
- タイトル別名
-
- Si ケッショウ ヒョウメン ノ ナノスケール カイシツ ノ タメ ノ シミュレーション ショキ サンカ オヨビ イオン チュウニュウソ カテイ ノ ケンキュウ
この論文をさがす
収録刊行物
-
- 粉砕 = The micromeritics
-
粉砕 = The micromeritics (46), 37-44, 2002
枚方 : ホソカワミクロン
- Tweet
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1522543655076075776
-
- NII論文ID
- 40005742022
-
- NII書誌ID
- AN00222553
-
- ISSN
- 04299051
-
- NDL書誌ID
- 6520619
-
- 本文言語コード
- ja
-
- NDL 雑誌分類
-
- ZP5(科学技術--化学・化学工業--化学工学)
-
- データソース種別
-
- NDL
- CiNii Articles