産業 究極の薄さの窒化シリコン膜の形成に成功--シリコン基板上に結晶構造を持った単一分子層窒化シリコン膜を初めて形成
書誌事項
- タイトル別名
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- サンギョウ キュウキョク ノ ウスサ ノ チッカ シリコン マク ノ ケイセイ ニ セイコウ シリコン キバン ジョウ ニ ケッショウ コウゾウ オ モッタ タンイツ ブンシソウ チッカ シリコン マク オ ハジメテ ケイセイ
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収録刊行物
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- 経済産業公報 / 経済産業調査会 編
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経済産業公報 / 経済産業調査会 編 (14945), 6-8, 2002-01-15
東京 : 経済産業調査会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1522825128384167424
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- NII論文ID
- 40005385215
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- NII書誌ID
- AA11501309
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- NDL書誌ID
- 6022607
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles
