ポリシラザンを原料とするシリカ薄膜の室温形成と新しい有機・無機ハイブリッド薄膜への展開
書誌事項
- タイトル別名
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- ポリシラザン オ ゲンリョウ ト スル シリカ ハクマク ノ シツオン ケイセイ ト アタラシイ ユウキ ムキ ハイブリッド ハクマク エ ノ テンカイ
- 薄膜形成技術とコーティング
- ハクマク ケイセイ ギジュツ ト コーティング
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収録刊行物
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- コンバーテック
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コンバーテック 39 (3), 98-102, 2011-03
東京 : 加工技術研究会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1522825130029658624
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- NII論文ID
- 40018761522
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- NII書誌ID
- AN10197190
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- ISSN
- 09112316
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- NDL書誌ID
- 11040986
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZP17(科学技術--化学・化学工業--高分子化学・高分子化学工業--ゴム・プラスチックス)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles