低温プロセスによる薄膜形成技術(NEW・1)プラスチック基材への高品質ITO薄膜の作製
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- テイオン プロセス ニ ヨル ハクマク ケイセイ ギジュツ NEW 1 プラスチック キザイ エ ノ コウヒンシツ ITO ハクマク ノ サクセイ
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- コンバーテック
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コンバーテック 39 (3), 84-89, 2011-03
東京 : 加工技術研究会
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1522825130155350656
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- NII Article ID
- 40018761518
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- NII Book ID
- AN10197190
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- ISSN
- 09112316
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- NDL BIB ID
- 11040959
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZP17(科学技術--化学・化学工業--高分子化学・高分子化学工業--ゴム・プラスチックス)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles
