超高密度・極微細シリコンナノドットの形成技術とメモリ特性
書誌事項
- タイトル別名
-
- チョウコウミツド ゴク ビサイ シリコンナノドット ノ ケイセイ ギジュツ ト メモリ トクセイ
- 特集1 次世代不揮発メモリーの開発・高集積化とその市場
- トクシュウ 1 ジセダイ フキハツ メモリー ノ カイハツ コウシュウセキカ ト ソノ シジョウ
この論文をさがす
抄録
コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌
収録刊行物
-
- Material stage / 技術情報協会 編
-
Material stage / 技術情報協会 編 5 (3), 25-30, 2005-06
東京 : 技術情報協会
- Tweet
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1522825130937727744
-
- NII論文ID
- 40006809636
-
- NII書誌ID
- AA1267241X
-
- ISSN
- 13463926
-
- NDL書誌ID
- 7395006
-
- 本文言語コード
- ja
-
- NDL 雑誌分類
-
- ZM16(科学技術--科学技術一般--工業材料・材料試験)
-
- データソース種別
-
- NDL
- CiNii Articles