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Effects of the statistical fluctuation of PAG and quencher concentration on LWR of ArF resists
Bibliographic Information
- Other Title
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- ArFレジストのLWRに対するPAGとクエンチャーの統計的な濃度揺らぎの効果
- ArF レジスト ノ LWR ニ タイスル PAG ト クエンチャー ノ トウケイテキ ナ ノウド ユラギ ノ コウカ
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Journal
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- Fujifilm research & development = 富士フイルム研究報告
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Fujifilm research & development = 富士フイルム研究報告 (62), 179-188, 2017
南足柄 : 富士フイルムR&D統括本部足柄図書室
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Keywords
Details 詳細情報について
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- CRID
- 1522825131052285952
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- NII Article ID
- 40021225270
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- NII Book ID
- AN10088082
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- ISSN
- 09151478
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- NDL BIB ID
- 028297643
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- Text Lang
- en
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- NDL Source Classification
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- ZP48(科学技術--印写工学)
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- Data Source
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- NDL Search
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