高温ガスによる表面付着薄膜蒸発過程の分子動力学的研究(付着分子層厚さ・付着分子-表面ポテンシャルの影響)〔含 コメント〕
Bibliographic Information
- Other Title
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- コウオン ガス ニ ヨル ヒョウメン フチャク ハクマク ジョウハツ カテイ ノ ブンシ ドウリキガクテキ ケンキュウ フチャク ブンシソウ アツサ フチャク ブンシーヒョウメン ポテンシャル ノ エイキョウ フクム コメント
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Journal
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- Thermal Science and Engineering
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Thermal Science and Engineering 7 (5), 41-50, 1999-09
Tokyo : Heat Transfer Society of Japan
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1523106604806075392
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- NII Article ID
- 10011326366
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- NII Book ID
- AA11358679
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- ISSN
- 09189963
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- NDL BIB ID
- 4872771
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- Text Lang
- en
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- NDL Source Classification
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- ZM5(科学技術--科学技術一般--工学・工業)
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- Data Source
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- NDL
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