低融点基板上に形成するトランジスタのゲート絶縁膜の高速成長法と硝酸改質法の開発
書誌事項
- タイトル別名
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- テイユウテン キバン ジョウ ニ ケイセイ スル トランジスタ ノ ゲート ゼツエン マク ノ コウソク セイチョウホウ ト ショウサン カイシツホウ ノ カイハツ
- 平成20年度 研究助成金受給者 研究報告集
- ヘイセイ 20ネンド ケンキュウ ジョセイキン ジュキュウシャ ケンキュウ ホウコクシュウ
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収録刊行物
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- 研究助成金受給者研究報告集
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研究助成金受給者研究報告集 27 20-23, 2008
東京 : 日揮・実吉奨学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1523106605597926912
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- NII論文ID
- 40017059164
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- NII書誌ID
- AN10192980
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- NDL書誌ID
- 10640375
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZM1(科学技術--科学技術一般)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles
