化学修飾XPSによる高分子フィルム表面分析
書誌事項
- タイトル別名
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- カガク シュウショク XPS ニ ヨル コウブンシ フィルム ヒョウメン ブンセキ
- XPS Analysis of Surface of Polymer Films Utilizing Chemical Modification
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収録刊行物
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- JSRテクニカルレビュー = JSR technical review / JSR株式会社研究開発部 編
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JSRテクニカルレビュー = JSR technical review / JSR株式会社研究開発部 編 (119), 14-19, 2012-03
東京 : JSR広報部
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1523106605854104448
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- NII論文ID
- 40020645856
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- NII書誌ID
- AA11131414
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- ISSN
- 09167129
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- NDL書誌ID
- 026857454
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZP17(科学技術--化学・化学工業--高分子化学・高分子化学工業--ゴム・プラスチックス)
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- データソース種別
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- NDLサーチ
- CiNii Articles