The material design to reduce outgassing in acetal based chemically amplified resist for EUV lithography
書誌事項
- タイトル別名
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- 低アウトガスEUVリソグラフィー用レジストの開発
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収録刊行物
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- Fujifilm research & development = 富士フイルム研究報告
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Fujifilm research & development = 富士フイルム研究報告 (53), 102-109, 2008
南足柄 : 富士フイルムR&D統括本部足柄図書室
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1523388079670565632
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- NII論文ID
- 40016134211
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- NII書誌ID
- AN10088082
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- ISSN
- 09151478
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- NDL書誌ID
- 9566909
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- 本文言語コード
- en
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- NDL 雑誌分類
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- ZP48(科学技術--印写工学)
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- データソース種別
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- NDLサーチ
- CiNii Articles