半導体・液晶プロセスにおける干渉計測の応用
書誌事項
- タイトル別名
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- ハンドウタイ エキショウ プロセス ニ オケル カンショウ ケイソク ノ オウヨウ
- Recent progress in interferometric surface profiling technology and its applications in semiconductor and LCD processes
- 特集 光干渉計測最新動向
- トクシュウ ヒカリ カンショウ ケイソク サイシン ドウコウ
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収録刊行物
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- Optronics : 光技術コーディネートジャーナル
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Optronics : 光技術コーディネートジャーナル 29 (8), 117-123, 2010-08
東京 : オプトロニクス社
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1523388079992484864
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- NII論文ID
- 40017234383
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- NII書誌ID
- AN00360965
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- ISSN
- 02869659
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- NDL書誌ID
- 10784252
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles